概述
采用TOPSTEK清洗上下料機，配合硅片清洗設備使用，將來(lái)料硅片由承載盒或花籃自動(dòng)裝載到清洗設備中；待清洗完成后，由皮帶輸送機裝載到客戶(hù)指定片盒內。 通過(guò)使用TOPSTEK清洗上下料機，可代替人工操作，降低人工作業(yè)強度及硅片碎片率，減少人為二次污染，提高良率及產(chǎn)能。
采用TOPSTEK清洗上下料機，配合硅片清洗設備使用，將來(lái)料硅片由承載盒或花籃自動(dòng)裝載到清洗設備中；待清洗完成后，由皮帶輸送機裝載到客戶(hù)指定片盒內。 通過(guò)使用TOPSTEK清洗上下料機，可代替人工操作，降低人工作業(yè)強度及硅片碎片率，減少人為二次污染，提高良率及產(chǎn)能。
- 硅片清洗自動(dòng)上下料機
傳統人工上料會(huì )造成硅片污染及破片，影響產(chǎn)品良率，浪費設備產(chǎn)能。
采用TOPSTEK清洗上下料機，配合硅片清洗設備使用，將來(lái)料硅片由承載盒或花籃自動(dòng)裝載到清洗設備中；待清洗完成后，由皮帶輸送機裝載到客戶(hù)指定片盒內。
通過(guò)使用TOPSTEK清洗上下料機，可代替人工操作，降低人工作業(yè)強度及硅片碎片率，減少人為二次污染，提高良率及產(chǎn)能。
TOPSTEK清洗上下料機，可集成MVC隱裂、水跡、雙片、破片檢測模塊，提升產(chǎn)品良率，為客戶(hù)節省大量資源，有效降低成本。
產(chǎn)品規格：
產(chǎn)品規格：
| 設備尺寸 | 堆疊8道設備 1.5mx2.9mx2m | |
| 片盒8道設備2.1mx2.9mx2m | ||
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堆疊5道設備1.5mx2.4mx2m 片盒5道設備 2.1mx2.5mx2m |
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| 適用Wafer尺寸 | 125x125mm/156x156mm（±0.5mm） | |
| 設備產(chǎn)能 | 4300pics/h（可定制） | |
| 破片率 | <0.03% (硅片自身缺陷除外) | |
產(chǎn)品特性：
不間斷堆疊上料，保證產(chǎn)能提升
可選上料隱裂、雙片檢測模塊
可選下料水跡、破片檢測模塊
專(zhuān)利吹氣機構，有效降低疊片及破片率
便捷式配置頁(yè)面，可自由設置各個(gè)參數
運動(dòng)部件安全防護，保障人身安全
優(yōu)化的結構設計，占地空間小
操作界面：
上一條： 太陽(yáng)能電池板表面缺陷檢測系統
下一條： 光致發(fā)光檢測系統PL-MVC
